光氧離子法除臭設備的工藝原理介紹

 

          一、光氧離子法除臭設備工藝原理如下：

 

          1、使用高能高臭氧紫外線光束分化空氣中的氧分子發(fā)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，從而發(fā)生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有較強的氧化作用，對有機氣體及其它刺激性異味有鏟除作用。有機性氣體使用排風設備輸入到本凈化設備后，運用高能紫外線光束及臭氧對有機(異味)氣體進行協(xié)同分化氧化反響，使有機氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再經(jīng)過排風管道排出室外。

 

　　    2、高能離子空氣凈化系選用正負電離技能。在電場作用下，離子發(fā)生器發(fā)生很多的a粒子，a粒子與空氣中的氧分子進行磕碰而構(gòu)成正負氧離子。正氧離子具有很強的氧化性，能在較短的時刻內(nèi)氧化分化甲硫醇、氨、硫化氫等污染因子，且在與 VOC 分子相觸摸后翻開有機揮發(fā)性氣體的化學鍵，經(jīng)過一系列的反響后，生成二氧化碳和水等安穩(wěn)無害的小分子。

 

　　    3、催化劑(二氧化鈦)在遭到紫外線光照耀時生成化學生動性很強的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基，進犯有機物，到達降解有機物的作用。二氧化鈦歸于非溶出型資料，在分化有機污染物和殺滅菌的一起，本身不分化、不溶出，光催化作用耐久，并具有耐久的滅菌、降解污染物作用。

 

           二、 光氧離子法除臭設備功能介紹

 

　　    1、降解有機化學物：光氧離子法除臭設備能去除揮發(fā)性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等***要污染物，以及各種惡臭味，脫臭功率可達99.9%以上，脫臭作用******超越1993年公布的惡臭污染物排放規(guī)范(GB14554-93)。

 

　    　2、無需增加任何物質(zhì)：光氧離子法除臭設備只需要設置相應的排風管道和排風動力，使氣體經(jīng)過本設備進行脫臭分化凈化，無需增加任何物質(zhì)參加化學反響。

 

　    　3、習慣性強：光氧離子法除臭設備可習慣高濃度，***氣量，不同有機化學氣體物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時接連作業(yè)，運轉(zhuǎn)安穩(wěn)牢靠。

 

　    　4、運轉(zhuǎn)成本低：光氧離子法除臭設備無任何機械動作，無噪音，無需專人辦理和日常保護，只需作定時查看，本設備能耗低，(每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.1度電能)，設備風阻較低<30pa,可節(jié)省很多排風動力能耗。